三星SK海力士双双力推 DRAM制造进入EUV时代

韩国半导体行业正在准备迎接新的飞跃，全球DRAM市场领头羊三星电子和SK海力士即将开启“EUV DRAM”时代。据韩国科技媒体ETNews报道，三星电子全新半导体工厂“平泽2号”（P2）已于上月开始运营，这座当前世界上最大的半导体工厂将生产全球首个基于EUV的移动DRAM产品。

SK海力士方面，也已在加速推进其基于1a工艺的EUV DRAM产品量产计划。SK海力士将在其下一代DRAM的生产基地M16芯片厂批量生产EUV DRAM，目前已经在园区内安装了两台EUV光刻机。EUV是一种波长为13.5纳米的短光源，其波长大约是今天广泛使用的ArF光源的十分之一，能够在半导体晶圆上刻画出更加精细的电路。由于简化了半导体制造工艺，EUV能够将制造精细电路所需的光刻工艺减少一半，并大幅提高生产率。随着EUV技术运用范围的扩大，相关产业链公司有望迎来机遇。

相关EUV光刻机概念公司：

英唐智控：拟收购的日本芯片半导体光刻机先锋微电子的股份；

苏大维格：光刻设备主要为紫外光刻直写设备，公司光刻机从设计、组装以及所用软件的开发，均由本公司自主完成，主要用于柔性电子、MEMS以及半导体上游器件等产品的研发与制造。