【IPO价值观】拓荆科技盈利能力不足 产品类型单一且周转率低

【编者按】近年来，中国集成电路产业一直处于风口之中。随着科创板的推出，越来越多的企业准备IPO以谋求更快的发展。为了更全面地了解IPO公司整体财务水平和行业地位，推出“IPO价值观——财务指标”系列，将正在IPO的公司各方面财务指标与集微数据库中A股135家中国芯上市公司对比分析，并对其排名，以供半导体投资者和行业人员参考。本期进行对比分析的公司为拓荆科技股份有限公司。

据笔者查询上交所网站可知，拓荆科技科创板IPO处于已问询状态。据招股说明书显示，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。

公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

报告期内，主要产品销售收入及占公司主营业务收入的比重如下：

分业务来看，报告期内，拓荆科技PECVD设备收入占比较高且增长较快，为公司的主要收入来源，占比近100%。

【编者按】近年来，中国集成电路产业一直处于风口之中。随着科创板的推出，越来越多的企业准备IPO以谋求更快的发展。为了更全面地了解IPO公司整体财务水平和行业地位，推出“IPO价值观——财务指标”系列，将正在IPO的公司各方面财务指标与集微数据库中A股135家中国芯上市公司对比分析，并对其排名，以供半导体投资者和行业人员参考。本期进行对比分析的公司为拓荆科技股份有限公司。

据笔者查询上交所网站可知，拓荆科技科创板IPO处于已问询状态。据招股说明书显示，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。

公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

报告期内，主要产品销售收入及占公司主营业务收入的比重如下：

分业务来看，报告期内，拓荆科技PECVD设备收入占比较高且增长较快，为公司的主要收入来源，占比近100%。

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